KRTS MX50M金相显微镜应用于工业检测及金相分析领域，各操作机构根据人机工程学设计，大限度减轻使用疲劳。模块化的部件设计，可对系统功能进行自由组合。大行程移动工作平台，长工作距半复消色差物镜，图像锐利清晰，集成了明场、斜照明、偏光、DIC微分干涉等多种观察功能，可根据实际应用，进行功能选择。
无限远铰链三通观察头
正像铰链三目观察头，所成像的方位与物体实际方位一致，物体移动的方向跟像面移动的方向相同，便于使用者观察与操作。
光学系统
同步设计了全套明暗场两用物镜，暗场照明亮度比传统暗场物镜提高 2 倍以上。采用长工作距物镜、半复消色差技术，多层宽带镀膜技术，采用LED光源，配合多种高度功能化的附件，50X 物镜的有效工作距离 7.9mm，100X 物镜的有效工作距离也达到了 2.1mm，更有20X 超长工作距金相物镜，大幅拓展了 MX 机型的应用领域。，能满足各种检验需要，可用于明场、简易偏光、微分干涉观察，专为LCD行业 / TFT玻璃 / COG导电粒子压痕、粒子爆破检查。

移动平台
6 英寸三层机械移动平台，低手位 X、Y 方向同轴调节 ；平台面积 445mm×240mm，反射照明移动范围 ：158mm×158mm ；透射照明移动范围 ：100×100mm ；带离合器手柄，可用于全行程范围内快速移动 ；玻璃载物台板（透、反射用）。

反射照明器
单颗大功率5W白色LED照明，带斜照明机构。切换至斜照明时，可以使物体表面不同材质部分呈现立体图案，增加观察的对比度与视觉效果。

丰富的观察方式，满足您的检测需求

明场观察：远心柯拉反射照明系统，配以无限远长工作距平场消色差金相物镜，从低倍到高倍，都能得到清晰、平坦、明亮的高画质显微图像。

暗场观察：将暗场照明拉杆拉到指定位置，即可使用暗场功能，可以观察物体表面的各种划痕、杂质点及其他细微缺陷。内置衰减片，减少明暗场切换时光线剧烈变换对眼睛的刺激。

简易偏光观察：将起偏镜及检偏镜插板插入照明器的指定位置，即可进行简易偏光观察。检偏镜可分为固定式和 360°旋转式两种。

DIC 微分干涉观察：在正交偏光的基础上 , 插入 DIC 棱镜，即可进行 DIC 微分干涉观察。使用 DIC 技术 , 可以使样品表面微小的高低差产生明显的浮雕效果，提高图像的对比度。可匹配带 DIC 功能的物镜，使整个视场的干涉色一致，微分干涉效果非常出色 , 高倍物镜 DIC 效果也较好。

U-DICR 微分干涉组件，可以将明场观察下无法检测的细微高低差，转化为高对比度的明暗差并以立体浮雕形式表现出来，如LCD 导电粒子，精密磁盘表面划痕等。

摄影 / 摄像附件

在三目观察筒上，可以配接摄影摄像装置，将双目观察到的图像输出至监视器或计算机，进行图像分析、处理、保存或传送。使用专用的 C 接口与中继镜，可以和数码相机联接，快速进行拍照，并获取图像。